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Enhancement of the reflectivity of Mo/Si multilayer x-ray mirrors by thermal treatment
Kloidt, A. ; Nolting, K. ; Kleineberg, U. ; Schmiedeskamp, B. ; Heinzmann, Ulrich ; Müller, P. ; Kühne, M.
In: Applied Physics Letters, Jg. 58 H. 23, S. 2601-2603
Fabrication and characterization of Si-based soft x-ray mirrors
Schmiedeskamp, B. ; Heidemann, B. ; Kleineberg, U. ; Kloidt, A. ; Kühne, M. ; Müller, H. ; Müller, P. ; Nolting, K. ; Heinzmann, Ulrich ; Hoover, Richard B. (Hrsg.)
In: X-ray EUV optics for astronomy, microscopy, polarimetry, and projection lithography, Jg. 1343, S. 64-72
Mo 0,5 Si 0,5/Si multilayer soft x-ray mirrors, high thermal stability, and normal incidence reflectivity
Stock, H. J. ; Kleineberg, U. ; Kloidt, A. ; Schmiedeskamp, B. ; Heinzmann, Ulrich ; Krumrey, M. ; Müller, P. ; Scholze, F.
In: Applied Physics Letters, Jg. 63 H. 16, S. 2207-2209
Thermal stability of Mo/Si multilayer soft-X-ray mirrors fabricated by electron-beam evaporation
Stock, H. J. ; Kleineberg, U. ; Heidemann, B. ; Hilgers, K. ; Kloidt, A. ; Schmiedeskamp, B. ; Heinzmann, Ulrich ; Krumrey, M. ; Müller, P. ; Scholze, F.
In: Applied Physics A: Materials Science and Processing, Jg. 58 H. 4, S. 371-376

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